描述
CO₂ 精密光学元件清洗（清洁）枪
望远镜镜面清洗设备
晶圆去污清洗
真空部件清洁
光栅清洁
精密光学元件传统清洁一直面临擦拭划伤镀膜、酒精溶剂残留、静电吸灰等难题。杭州谱镭光电（SPL）推出的精密光学元件清洗器是一种基于固态CO₂喷射技术的精密表面清洁设备。利用高压CO₂气体通过特殊喷嘴膨胀冷却形成微米级干冰“雪”颗粒，以高速撞击待清洁表面，高效去除微米/亚微米颗粒、油脂及有机污染物，相比传统溶剂清洗或机械刮擦，精密光学元件清洗器具有无损、无残留、抗静电、高洁净度等优势，广泛应用于光学、激光、半导体光刻、航天天文、红外探测、真空腔体等高精密场景，是高端精密器件清洁的标配解决方案。
产品特点
- 微粒去除能力：高效去除微米、亚微米级的尘埃、纤维、金属碎屑等微粒，还可去除指纹、油脂、有机残留助焊剂残留等薄膜污染物
- 无损伤：对精密光学镀膜（如增透膜、高反膜）、脆性材料（如氟化钙、硫化锌）及软质金属（如金、银）涂层无划伤或腐蚀风险。
- 无残留：不使用溶剂，清洁后CO₂完全气化挥发，无任何化学残留或水渍。
- 非接触：喷嘴与表面保持一定距离（通常1~3 cm），避免物理接触带来的划伤或静电损伤。
- 无静电累积：CO₂气流具有抗静电特性，可中和表面静电，防止清洁过程中颗粒因静电再吸附。
- 适用材质广：金属、陶瓷、聚合物、玻璃、半导体晶圆、镀膜光学件
产品应用
- 精密光学元件
透镜、棱镜、窗口片、薄膜滤光片、衍射光学元件DOE、微透镜阵列：镀膜前后非接触无损清洁，不划伤镀膜、不损伤微纳结构，提升镀膜附着力与光学性能。
- 激光元器件
激光晶体、非线性晶体（YAG/LBO/BBO）、高功率激光光学件、半导体激光器巴条：去除表面微粒油污，避免激光热点损伤、提升激光损伤阈值与输出稳定性。
- 光电仪器镜头
相机镜头、显微镜物镜、红外探测器窗口（锗/硅/硒化锌等软脆材质）：可清洁内部镜组，无需拆机、无对心偏差，去霉斑油雾不伤基材。
- 半导体&光刻设备
半导体晶圆、真空腔体、光刻机投影物镜与照明系统：高洁净无残留，适配产线精密除尘，稳定生产良率。
- 天文&航天光学
大口径天文望远镜主镜、卫星太空光学系统：地面装配测试专用，免频繁拆装、真空环境无挥发污染，航天级无损清洁标准。
产品参数
参数项 | 标准型 | 高纯型 | 电磁阀型 | 双气型 |
工作介质 | 液态或气态CO₂ | 液态或气态CO₂ | 液态或气态CO₂ | CO₂ + N₂/压缩空气 |
喷嘴类型 | 非对称文丘里 | 非对称文丘里 | 非对称文丘里 | 非对称文丘里（T型为管式） |
软管长度 | 5或10英尺 | 5或10英尺 | 10英尺（PTFE内衬） | 10英尺 |
软管材质 | 橡胶 | PTFE内衬不锈钢编织 | PTFE内衬不锈钢编织 | PTFE内衬不锈钢编织 |
阀门 | 直通开关枪 | 90°电抛光不锈钢无密封阀 | 高压电磁阀（24VDC） | 双电磁阀或电磁阀+手动阀 |
过滤器（可选） | F1(0.5μm)/F3(0.003μm) | F1(0.5μm)/F3(0.003μm) | F1(0.5μm)/F3(0.003μm) | F1(0.5μm)/F3(0.003μm) |
压力表（可选） | 0-2000 psi | 0-2000 psi | 0-2000 psi | 0-2000 psi |
简易选型指南
- 标准系列：性价比首选，适合实验室、普通光学镜片、常规镜头中小企业通用清洁。
- 高纯系列：高洁净级别，适配半导体、高端镀膜、航天光学、精密红外器件等高要求场景。
- 电磁阀款：适合自动化产线集成、固定工位电控操作，适配流水线批量使用。
- 双气系列：针对顽固污渍、大口径镜面、特殊难清洁工况，氮气/压缩空气辅助，清洁力度更强。
- 望远镜专用款：专为天文望远镜、卫星光学系统定制，低流量不伤镀金镜面，免拆装维护。
权威应用案例：詹姆斯·韦伯空间望远镜镜面清洁
造价百亿美元的詹姆斯·韦伯空间望远镜（James Webb Space Telescope），其主镜由18块镀金铍镜组成，光学表面对粉尘、指纹、有机污染物极度敏感。在地面装配、测试及维护过程中，工程师团队正是采用高纯CO₂清洗技术，安全去除镜面上的尘埃、指纹及有机污染物，同时保证光学镀膜零损伤、无静电吸附、无化学残留。这一选择充分验证了CO₂清洁技术在极高价值光学系统中的可靠性。
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