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谱镭光电 渐变衰减滤光片 VAF 250-2500nm 光谱仪 激光衰减 光学成像

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咨询邮箱:market@spl-tech.cn

Additional information

描述

谱镭光电

渐变衰减滤光片 VAF

250-2500nm OD0.1-4.0

谱镭光电渐变衰减滤光片(VAF)波长范围250-2500nm,光密度0.1-4.0连续可调,透过率0%-92%,适用于光谱仪、激光衰减、光学成像等需要动态调节光强的场景。

杭州谱镭光电(SPL)的渐变衰减滤光片(Variable Attenuator Filter,VAF)是一种通过线性移动或旋转方式实现光强连续可调的反射型衰减光学元件。与固定光密度的中性密度滤光片不同,渐变衰减滤光片在其有效区域内光密度呈连续梯度变化,通过机械位移(线性移动或旋转)可以精确调节透过率,从而实现从几乎完全截止到高透过率之间的任意亮度输出,满足需要动态调节光通量的应用需求。谱镭光电的渐变衰减滤光片采用高品质光学基底和精密镀膜工艺,确保光密度变化的均匀性和稳定性。产品提供两种标准基底材质选择:N-BK7适用于380-2000nm波段,熔融石英适用于250-2500nm波段,覆盖紫外至近红外宽光谱范围。光密度调节范围0.1~4.0,对应透过率从约0%至92%连续可调。产品尺寸可定制20mm至200mm范围,尺寸公差±0.1mm,表面光洁度S/D≤80-50,满足精密光学系统的要求,广泛应用于光谱仪信号调节、激光功率衰减、光学成像系统曝光控制、光通讯信道均衡、生物医学光学检测等领域。所有产品均可根据客户的具体指标(波长范围、光密度梯度、尺寸、安装方式等)进行定制化生产,助力科研与工业用户实现灵活精准的光强控制。

产品特点

  • 连续可调,灵活性高:通过线性移动或旋转实现0%至92%透过率连续调节,适应不同光照条件下的测量需求。
  • 宽光谱覆盖:N-BK7基底覆盖380-2000nm,熔融石英基底覆盖250-2500nm,满足紫外至近红外多种应用。
  • 高精度控制:光密度变化均匀连续,调节重复性好,适用于需要精确光强控制的实验与设备。
  • 反射型设计,热稳定性好:反射型衰减机制减少光吸收产热,适用于高功率激光衰减应用。

应用领域

  • 光谱仪信号调节
  • 激光功率衰减
  • 光学成像系统曝光控制
  • 光通讯衰减滤波
  • 生物医学光学检测
  • 工业视觉光源调节等

产品参数

中心波长

380nm-2000nm(N-BK7)250nm-2500nm(熔融石英)

光密度

0.1~4.0

透过率

0%~92%(连续可调整)

产品尺寸

20mm-200mm(按客户需求)

尺寸公差

±0.1mm

产品材质

N-BK7、熔融石英、光学级别类玻璃

表面光洁度

S/D≤80-50

示例光谱图

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