描述
谱镭光电 原位荧光光谱监测系统
SPL-ProPL系列原位荧光光谱监测系统可以实现对材料原位荧光光谱的监测以及荧光谱峰半高宽/中心波长的变化趋势追踪分析，解析材料的成核与结晶行为机理以及溶剂工程、添加剂工程、界面工程以及温度等因素对材料结晶动力学的影响机制。
原位光谱监测系统可适配到手套箱环境，也可集成到其他材料制备设施中进行材料生长制备过程的原位光谱的监控测量。此外，可通过移动光谱采集探头/模块适配到旋涂、刮涂以及退火等不同原位光谱测试场景，达到一机多用的灵活适配。
系统组成
- 激发收集模块
输出激光功率可调，焦距可调；光纤耦合准直透镜收集荧光信号；
- 激发光源
405 nm激光器@100 mW（波长和功率可选）；
- 光谱仪
350-1100 nm（波段可选，满足宽窄带隙各种样品）；最小积分时间μs量级，最大帧率达4500帧/秒；
4、测试软件
可以设置积分时间、平均次数、采样间隔；谱峰波长及谱峰强度追踪；
5、分析软件
四种分析模式：原位荧光光谱热力图、中心波长以及半高峰宽变化追踪、时间-强度-波长3D光谱图 、原位光谱时间局部变化细节框选查看。
- 配置
光路激发收集模块1个、原位荧光光谱分析仪1台、光纤2根、支架1套、底板1块、采集软件1套、分析软件1套。
系统特点
1、实时测量发光材料制备时的原位光谱；
2、原位光谱测量专用软件，可以实现时间趋势的原位光谱图和 3D 的光谱图；
3、光谱数据到处和处理方便，可以直接截取拉伸原位光谱变化区域细节；
4、采用海洋光学的光谱仪，系统稳定可靠；
5、光谱采集探头/模块可实现高效收集，可避免污染。
应用领域
- 钙钛矿薄膜旋涂退火过程原位荧光光谱监测
- 薄膜涂覆、淬火等制备工艺监测
- 量子点合成过程峰位变化监测
- 发光材料原位荧光光谱测量
- 二维材料制备原位荧光光谱监测
系统规格参数
光谱仪 | 光谱范围：350-1100 nm（波段可选） |
光谱分辨率：1.2-9.4 nm（根据光谱仪配置） | |
积分时间：10 μs ~ 10 s（根据光谱仪配置） | |
波长重复性：±0.05 nm连续100次测量(汞-氩灯) | |
波长准确度：±0.3 nm | |
光纤接口：SMA905 | |
激发光源 | 405 nm激光器@100 mW，功率可调（波长和功率可选） |
激发收集探头 | 激发：光纤耦合准直透镜输出，焦距可调 收集：光纤耦合准直透镜收集荧光 |
通讯 | USB2.0、RS232 |
测试环境 | 空气、手套箱等环境 |
联系销售（工作日8:30~17:30）
电话：13375811866
微信：
